应用材料以色列公司A·利特曼获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料以色列公司申请的专利在高能SEM下用沉积来填充空结构以实现均匀分层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115191026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080097813.0，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权在高能SEM下用沉积来填充空结构以实现均匀分层是由A·利特曼;K·奇尔科;Y·祖尔设计研发完成，并于2020-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本在高能SEM下用沉积来填充空结构以实现均匀分层在说明书摘要公布了：一种评估样品的包括由实心部分分开的孔阵列的区域的方法。所述方法包括以下步骤：将样品定位在评估工具的真空腔室内，评估工具包括扫描电子显微镜SEM柱和聚焦离子束FIB；将沉积气体注入到样品上；用第一带电粒子束扫描样品的包括在孔阵列中的多个孔的部分，以从沉积气体将材料局部地沉积在所扫描的部分中的多个孔内；以及用FIB柱铣削样品的包括在其中局部地沉积材料的多个孔的部分。
本发明授权在高能SEM下用沉积来填充空结构以实现均匀分层在权利要求书中公布了：1.一种评估样品的包括由实心部分分开的孔阵列的区域的方法，所述方法包含以下步骤： 将所述样品定位在评估工具的真空腔室内，所述评估工具包括扫描电子显微镜SEM柱和聚焦离子束FIB； 将沉积气体注入到所述样品上； 用第一带电粒子束扫描所述样品的包括在所述孔阵列中的多个孔的部分，以通过从所述沉积气体将材料局部地沉积在所扫描的所述部分中的所述多个孔内来至少填充所述多个孔的上部部分；以及 用所述FIB柱铣削所述样品的包括在其中局部地沉积所述材料的所述多个孔的所述部分。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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