日产化学株式会社远藤雅久获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利感光性绝缘膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115298616B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180021724.2，技术领域涉及：G03F7/038；该发明授权感光性绝缘膜形成用组合物是由远藤雅久;泽田和宏;岸冈高广设计研发完成，并于2021-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本感光性绝缘膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供一种能给予初始介电损耗角正切低，且其经时变化也小的固化物的感光性绝缘膜树脂组合物、使用该感光性绝缘膜组合物制造带固化浮雕图案的基板的方法、及具备该固化浮雕图案的半导体装置。所述感光性绝缘膜形成用组合物包含具有下述式1表示的重复单位结构的聚合物，及溶剂。式1中，基团A11表示A11所示的芳族杂环，基团A22表示A22所示的芳族杂环，基团A11、基团A22可以具有交联性取代基，基团B11表示具有交联性取代基的有机基团，基团B22表示不具有交联性取代基的有机基团。
本发明授权感光性绝缘膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种感光性绝缘膜形成用组合物，其包含具有下述式1表示的重复单位结构的聚合物，及溶剂； 式1中，基团A1表示所示的芳族杂环，该芳族杂环具有交联性取代基或不具有交联性取代基， 基团A2表示选自由 所示的芳族杂环组成的组中的至少一种芳族杂环，这些芳族杂环具有交联性取代基或不具有交联性取代基， 基团B1为选自下述基团中的至少一种， 式中，G表示直接键合、或下述式中的任意之一， L、M各自独立地表示氢原子、苯基、或C1-3烷基，基团B2为选自下述基团中的至少一种， 式中，G表示直接键合、或下述式中的任意之一， L、M各自独立地表示氢原子、苯基、或C1-3烷基， n1为1，n2为0以上且1以下的数， m1和m2各自独立地为0以上且1以下的数， n为1以上的数，m为0以上的数，且10≤n+m≤500。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人日产化学株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励