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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料韩国有限公司申请的专利光致抗蚀剂底层组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116360212B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211725313.4，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂底层组合物是由M·K·张;H·申;K·郑设计研发完成，并于2022-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光致抗蚀剂底层组合物在说明书摘要公布了：一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含第一聚合物，该第一聚合物包含衍生自N‑烷氧基甲基甲基丙烯酰胺单体的第一结构单元；包含芳香族基团、杂环基团、酯基团、酰胺基团或其组合的第二结构单元，其中该第二结构单元进一步包含可交联基团；其中该第一聚合物包含该第二结构单元，该光致抗蚀剂底层组合物进一步包含含有该第二结构单元的第二聚合物，或其组合，热酸产生剂；以及溶剂。

本发明授权光致抗蚀剂底层组合物在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含 第一聚合物，所述第一聚合物包含衍生自N-烷氧基甲基甲基丙烯酰胺单体的第一结构单元； 包含芳香族基团、杂环基团、酯基团、酰胺基团或其组合的第二结构单元，其中所述第二结构单元进一步包含可交联基团； 其中所述光致抗蚀剂底层组合物进一步包含含有所述第二结构单元的第二聚合物， 热酸产生剂；以及 溶剂， 其中所述第二结构单元包含杂环基团，该杂环基团包含衍生自由式4、式5表示的化合物或其组合的取代的氰尿酸酯结构单元： 其中，在式4和5中，R5和R6各自独立地是氢、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C3-30杂环烷基、取代或未取代的C6-30芳基、或取代或未取代的C3-30杂芳基； R7是氢、-COOH、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C2-30烷酰基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、取代或未取代的C1-C30烷硫基、取代或未取代的C1-C30烷基亚磺酰基、取代或未取代的C1-C30烷基磺酰基、取代或未取代的C2-C30烷氧基羰基、取代或未取代的C3-20环烯基、取代或未取代的C3-20杂环烯基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C7-C30烷基芳基、取代或未取代的C7-C30芳基烷基、取代或未取代的C3-30杂芳基、取代或未取代的C4-30烷基杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基； X和X’各自独立地是氢、或取代或未取代的C1-10烷基； n1、n2、m1、m2、和m3各自独立地是从1至10的整数。

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