武汉颐光科技有限公司刘亚鼎获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉颐光科技有限公司申请的专利一种单旋转椭偏系统的校准方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116817768B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310574311.8,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权一种单旋转椭偏系统的校准方法是由刘亚鼎;杨成;陈军;何勇;薛小汝;陶泽;郭春付;李伟奇;张传维设计研发完成,并于2023-05-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单旋转椭偏系统的校准方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种单旋转椭偏系统的校准方法,包括:获取双旋转系统的第一系统参数,并利用双旋转系统测量多个标准样件的拟合厚度;将所述双旋转系统切换为单旋转系统,测量多个标准样件的光强信息,并将所述光强信息进行傅里叶变换处理得到第二傅里叶系数;利用第二傅里叶系数、第一系统参数以及拟合厚度,对第一系统参数进行逐一拟合迭代替换,直到除厚度和入射角以外的第一系统参数全部更新为止,得到单旋转系统参数;利用更新后的单旋转系统测量待测样件的光强信息,对待测样件的光强信息进行傅里叶变换得到第三傅里叶系数;利用单旋转系统参数与第三傅里叶系数计算得到待测样件的穆勒矩阵。该方法能够使得测量结果更加精确。
本发明授权一种单旋转椭偏系统的校准方法在权利要求书中公布了:1.一种单旋转椭偏系统的校准方法,其特征在于,包括以下步骤: 获取双旋转系统的第一系统参数,并利用双旋转系统测量多个标准样件的拟合厚度; 将所述双旋转系统切换为单旋转系统,测量多个标准样件的光强信息,并将所述光强信息进行傅里叶变换处理得到第二傅里叶系数; 利用第二傅里叶系数、第一系统参数以及拟合厚度,对第一系统参数进行逐一拟合迭代替换,直到除厚度和入射角以外的第一系统参数全部更新为止,得到单旋转系统参数; 利用更新后的单旋转系统测量待测样件的光强信息,对待测样件的光强信息进行傅里叶变换得到第三傅里叶系数; 利用单旋转系统参数与第三傅里叶系数计算得到待测样件的穆勒矩阵; 利用第二傅里叶系数、第一系统参数以及拟合厚度,对第一系统参数进行逐一拟合迭代替换,包括: 将双旋转系统的系统参数固定为第一系统参数,其中标准样件的穆勒矩阵通过双旋转系统测量的多个标准样件的拟合厚度以及入射角固定; 依次放开第一系统参数中的两个参数参与拟合,并拟合后得到的参数替换原参数。
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