武汉华工图像技术开发有限公司石建行获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华工图像技术开发有限公司申请的专利一种UV光固化材料及全息防伪Patch膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118124289B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410204734.5，技术领域涉及：B41M5/50；该发明授权一种UV光固化材料及全息防伪Patch膜是由石建行;牟靖文;蒋贝贝;芦顺;熊丽端设计研发完成，并于2024-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种UV光固化材料及全息防伪Patch膜在说明书摘要公布了：本发明提供一种光固化材料及全息防伪Patch膜，UV光固化材料包括：氟硅改性丙烯酸树脂10～30份、甲基丙烯酸磷酸酯10～5份、聚丁二烯聚氨酯丙烯酸酯30～10份、甲基丙烯酸缩水甘油酯10～15份、甲基丙烯酸异冰片酯20～10份、纳米氧化硅5份、聚乙二醇二硫醇10～20份和184光引发剂5份；全息防伪Patch膜由下至上依次包括载体、连接层、耐磨层、基膜、成像层、镀层和胶层，其中耐磨层由UV光固化材料涂布而成。本发明制备的全息Patch膜不仅可以提供全息防伪图案，提高证卡的防伪力度，还具有良好的耐磨性、耐化性、抗涂鸦和自修复性能，可以保护证卡不被磨损、腐蚀、破坏，可以提高证卡的使用寿命。
本发明授权一种UV光固化材料及全息防伪Patch膜在权利要求书中公布了：1.一种UV光固化材料，其特征在于，包括： 氟硅改性丙烯酸树脂10~30重量份、甲基丙烯酸磷酸酯5~10重量份、聚丁二烯聚氨酯丙烯酸酯10~30重量份、甲基丙烯酸缩水甘油酯10~15重量份、甲基丙烯酸异冰片酯10~20重量份、纳米氧化硅5重量份、聚乙二醇二硫醇10~20重量份以及184光引发剂5重量份。
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