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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第十研究所申请的专利一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118693497B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410825559.1，技术领域涉及：H01P5/08；该发明授权一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构是由杜明;何海卓;周太富;胡大成;罗鑫;熊文毅;李鹏凯设计研发完成，并于2024-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构，包括带状线，所述带状线的上方连通有上屏蔽腔，所述带状线的下方连通有下屏蔽腔，所述上屏蔽腔、带状线和下屏蔽腔共同设置在一多层电路板内，所述多层电路板的一侧电气连接有一过渡界面，所述过渡界面的另一侧电气连接有一同轴线，所述过渡界面包括界面地板，所述界面地板的中部设置所述绝缘缺口，所述绝缘缺口与上屏蔽腔、带状线、下屏蔽腔和同轴线均连通。设计了过渡界面，实现了多层电路板内部的带状线到多层电路板侧壁同轴线的过渡；在过渡界面处设置了绝缘缺口，在内部上地板和内部下地板靠近过渡界面处设置了过渡缺口，用以引导电磁场型由带状线场型平滑过渡至同轴场型，从而获得传输驻波好、损耗低的优点。

本发明授权一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构在权利要求书中公布了：1.一种带状线传输线到同轴传输线的过渡结构，其特征在于：包括带状线1，所述带状线1的上方连通有上屏蔽腔2，所述带状线1的下方连通有下屏蔽腔3，所述上屏蔽腔2、带状线1和下屏蔽腔3共同设置在一多层电路板内，所述多层电路板的一侧电气连接有一过渡界面4，所述过渡界面4的另一侧电气连接有一同轴线5，所述过渡界面4包括界面地板，所述界面地板的中部设置有绝缘缺口403，所述绝缘缺口403与上屏蔽腔2、带状线1、下屏蔽腔3和同轴线5均连通；所述带状线1包括平行设置且具有过渡缺口105的内部上地板103和内部下地板104，所述内部上地板103和内部下地板104之间设有与其两者平行的信号线101，带状线1的信号能够通过内部上地板103和内部下地板104的过渡缺口105进入到上屏蔽腔2和下屏蔽腔3内；所述过渡缺口105位于内部上地板103及内部下地板104在靠近过渡界面4的一侧，所述过渡缺口105朝过渡界面4的一侧贯通。

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