深圳晶源信息技术有限公司丁成宏获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种调整设计版图的方法、装置、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119443026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411441687.2，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权一种调整设计版图的方法、装置、设备、介质及产品是由丁成宏设计研发完成，并于2024-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种调整设计版图的方法、装置、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种调整设计版图的方法、装置、设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。该方法，先根据整体坏点信息数据库中各坏点在原始设计版图上的分布密度进行聚类操作，将各坏点划分至多个局部设计版图。然后，对局部设计版图进行调整得到目标局部设计版图，并得到最终的目标设计版图。本申请实施例所提方案通过各坏点在原始设计版图上的分布密度进行聚类操作，能快速确定出了坏点所在的局部设计版图，进而对相应位置的图形进行修改，耗时较少。且因为仅需要对局部的设计版图进行调整，相较于对整个设计版图进行整体调整，本方案耗费的计算资源以及计算时间都更少，从而能够满足实际生产需求。
本发明授权一种调整设计版图的方法、装置、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种调整设计版图的方法，其特征在于，包括： 基于原始设计版图进行光刻仿真，确定对应的整体坏点信息数据库； 根据所述整体坏点信息数据库中各坏点在所述原始设计版图上的分布密度进行聚类操作，将各坏点划分至多个局部设计版图； 确定所述局部设计版图对应的局部坏点信息数据库； 基于所述局部坏点信息数据库，调整所述局部设计版图，以消除所述局部坏点信息数据库中的各坏点，得到目标局部设计版图； 将所述目标局部设计版图与所述原始设计版图中除所述局部设计版图以外的未处理区域进行合并，得到目标设计版图； 所述基于所述局部坏点信息数据库，调整所述局部设计版图，以消除所述局部坏点信息数据库中的各坏点，得到目标局部设计版图，包括：确定待消除坏点在所述局部设计版图中的目标边线；确定所述待消除坏点的坏点类别；基于所述待消除坏点的坏点类别，移动所述目标边线，得到所述目标局部设计版图。
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