信阳市谷麦光电子科技有限公司张诺寒获国家专利权
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龙图腾网获悉信阳市谷麦光电子科技有限公司申请的专利一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119613795B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411932884.4，技术领域涉及：C08J7/06；该发明授权一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜及其制备方法是由张诺寒;杨加明;黄光光;廖勇军;岳俊跃;刘彦;徐昱;刘宇洋;丁贺设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提出了一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜及其制备方法，属于色转换膜技术领域。制备Zn‑InLa‑S量子点，表面生长ZnS外壳后，包覆一层聚多巴胺层，制得改性包覆ZnS外壳的Zn‑InLa‑S量子点，与氧化石墨烯包覆的ZnCNi33混合于溶剂中，均匀旋涂于聚碳酸酯薄膜上，另一面同样方法处理，干燥，制得耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜，本发明制备了一种量子点色转换膜，具有较好的耐高蓝光辐射和耐高温的性能，对紫外线和蓝光阻挡效率高，成本低廉、耐热和耐化学稳定性好，能耐受水和氧气环境，具有广阔的应用前景。
本发明授权一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜的制备方法，其特征在于，制备Zn-InLa-S量子点，表面生长ZnS外壳后，包覆一层聚多巴胺层，制得改性包覆ZnS外壳的Zn-InLa-S量子点，与氧化石墨烯包覆的ZnCNi3混合于溶剂中，均匀旋涂于聚碳酸酯薄膜上，另一面同样方法处理，干燥，制得耐高蓝光辐射和耐高温的量子点色转换膜。
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