京东方科技集团股份有限公司陈刚获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利全固态H-PDLC体全息光栅及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119717333B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510052381.6，技术领域涉及：G02F1/1334；该发明授权全固态H-PDLC体全息光栅及其制备方法是由陈刚;左洪业;贾苗苗;谢昌翰;黄华;赵承潭;孙永旗设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本全固态H-PDLC体全息光栅及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种全固态H‑PDLC体全息光栅及其制备方法，全固态H‑PDLC体全息光栅包括多个周期结构和位于相邻的周期结构之间的液晶高分子，所述液晶高分子由液晶性可聚合单体聚合而成，所述周期结构为非液晶性高分子，由非液晶性可聚合单体聚合而成。本申请采用液晶高分子替代普通H‑PDLC中的小分子液晶，可制备全固态、无基板的H‑PDLC，从而有效减小了器件的体积，并避免基板对器件光学性质的影响。
本发明授权全固态H-PDLC体全息光栅及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种全固态H-PDLC体全息光栅的制备方法，包括步骤： 制备液晶浆液，所述液晶浆液包括液晶性可聚合单体、非液晶性可聚合单体以及引发剂； 采用所述液晶浆液填充容纳空间，然后进行干涉曝光，使得所述非液晶性可聚合单体发生聚合，形成非液晶性高分子组成的多个周期结构； 对含有所述非液晶性高分子的液晶浆液进行光照射或加热，使得所述液晶性可聚合单体发生聚合，在相邻的周期结构之间形成液晶高分子，得到所述全固态H-PDLC体全息光栅。
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