中子科学(重庆)研究院有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉中子科学(重庆)研究院有限公司申请的专利指靶的感测端结构、束流测试装置和束流调控方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119805533B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411978941.2，技术领域涉及：G01T1/29；该发明授权指靶的感测端结构、束流测试装置和束流调控方法是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本指靶的感测端结构、束流测试装置和束流调控方法在说明书摘要公布了：本发明涉及回旋加速器技术领域并公开一种指靶的感测端结构、束流测试装置和束流调控方法，所述指靶的感测端结构包括多个靶指，多个所述靶指平行于第一方向，相邻两个所述靶指在第二方向上间隔布置，多个所述靶指在第三方向上依次排布；其中，在正交于所述第二方向的投影面内，每个所述靶指在所述第二方向上投影形成靶指投影，相邻两个所述靶指投影的边界之间在所述第三方向上相互重合。指靶的感测端结构克服束流的轴向分布测量精确度不高的技术问题，通过对多个靶指进行特定的排布，可以精确测量窄脉冲状态下束流的轴向分布，为螺片偏转板电压、静电偏转镜等偏转器件的调试进行指导。
本发明授权指靶的感测端结构、束流测试装置和束流调控方法在权利要求书中公布了：1.一种指靶的感测端结构，用于回旋加速器中，测量束流的轴向分布，其特征在于，包括： 多个靶指，多个所述靶指平行于第一方向，相邻两个所述靶指在第二方向上间隔布置，相邻两个所述靶指之间在所述第二方向上的距离大于束流轰击所述靶指产生二次电子的飞行半径，多个所述靶指在第三方向上依次排布，所述靶指在所述第三方向上的尺寸大于束流轰击所述靶指产生的二次电子飞行半径； 其中，在正交于所述第二方向的投影面内，每个所述靶指在所述第二方向上投影形成靶指投影，相邻两个所述靶指投影的边界之间在所述第三方向上相互重合； 所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向之间相互正交。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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