河南微米光学科技有限公司刘畅获国家专利权
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龙图腾网获悉河南微米光学科技有限公司申请的专利用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120536880B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510696294.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜是由刘畅;王玉洁;葛瑶瑶;李秋丽设计研发完成，并于2025-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜，采用磁控溅射工艺在衬底表面沉积形成反射镀膜，反射镀膜中包括铜元素、铟元素和镓元素；反射镀膜与衬底接触的一侧为里层，背离衬底的一侧为表层，铜元素的含量沿反射镀膜的厚度方向由反射镀膜的里层至表层呈线性连续递增，铟元素的含量沿反射镀膜的厚度方向由反射镀膜的里层至表层呈线性连续递增，镓元素的含量沿反射镀膜的厚度方向由反射镀膜的里层至表层呈线性连续递减。本发明采用磁控溅射工艺在衬底表面沉积形成具有含量连续变化的防蓝光选择性反射镀膜，针对波长处于400‑450nm之间的短波蓝光具有较高的反射率，对其他波长范围的可见光具有较高的透过率。
本发明授权用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜在权利要求书中公布了：1.一种用于立体成像的铜铟镓梯度光学镀膜，其特征在于，采用磁控溅射工艺在衬底表面沉积形成反射镀膜，所述反射镀膜中包括铜元素、铟元素和镓元素； 所述反射镀膜与所述衬底接触的一侧为里层，背离所述衬底的一侧为表层，所述铜元素的含量沿所述反射镀膜的厚度方向由所述反射镀膜的里层至表层呈线性连续递增，所述铟元素的含量沿所述反射镀膜的厚度方向由所述反射镀膜的里层至表层呈线性连续递增，所述镓元素的含量沿所述反射镀膜的厚度方向由所述反射镀膜的里层至表层呈线性连续递减； 在所述反射镀膜的里层中，CuCu+In+Ga的原子比值范围为0.42-0.5，GaCu+In+Ga的原子比值范围为0.32-0.37，其余为In； 在所述反射镀膜的表层中，CuCu+In+Ga的原子比值范围为0.55-0.63，GaCu+In+Ga的原子比值范围为0.05-0.13，其余为In。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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