合肥芯碁微电子装备股份有限公司李志豪获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请的专利一种曝光面剂量修正系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223796822U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520171669.0,技术领域涉及:G03F7/20;该实用新型一种曝光面剂量修正系统是由李志豪;董邦林;穆璐;宋照爱设计研发完成,并于2025-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光面剂量修正系统在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种曝光面剂量修正系统,涉及光刻设备技术领域。具体包括探测装置、第一探测器以及第二探测器,探测装置用于接收和调整光源设备发射的激光;第一探测器安装于探测装置的一侧,其接收探测装置射出的激光,并经光电转化为传输至控制器的电信号;第二探测器设在曝光面的周边,其检测光源设备发射并经过镜片照射到曝光面的激光,并光电转化为传输至控制器的电信号。第一探测器测量光源设备的能量,而第二探测器获取曝光面的能量,并通过控制器将第一探测器的能量和第二探测器的能量做一闭环,可校正后的光路中第二探测器可以直接表征曝光面能量,提高曝光面剂量的测量精度,也无需采用深入探测器的方式。
本实用新型一种曝光面剂量修正系统在权利要求书中公布了:1.一种曝光面剂量修正系统,其特征在于,包括: 探测装置2,其用于接收并调整光源设备发射的激光; 第一探测器1,安装在所述探测装置2的一侧,用于接收所述探测装置2射出的激光,并将其转化为电信号; 第二探测器6,设置在曝光面5的周边,检测光源设备发射并通过镜片反射到曝光面5的激光,并将其转化为电信号;以及 控制器,接收来自第一探测器1和第二探测器6的电信号,并根据电信号生成剂量修正指令,控制曝光过程。
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