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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理系统和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112652551B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011054695.3，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理系统和基板处理方法是由金川耕三;鹤崎广太郎;隐塚惠二;甲斐义广设计研发完成，并于2020-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理系统和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理系统和基板处理方法。提供能够使成批地处理的多片基板的间距变窄且能够抑制基板与输送机器人之间的干涉的技术。基板处理系统具有：批量处理部，其成批地处理以第1间距包含多片基板的批次；单片处理部，其逐片处理批次的基板；以及接口部，其在批量处理部和单片处理部之间交接基板，批量处理部包括：处理槽，其贮存块状或雾状的处理液；第1保持器具，其将基板以第1间距保持；以及第2保持器具，其在处理液中从第1保持器具接收以第1间距的NN为2以上的自然数倍、即第2间距排列的基板，接口部包括输送部，该输送部将在处理液中被分开保持在第1保持器具和第2保持器具的基板从批量处理部向单片处理部输送。

本发明授权基板处理系统和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理系统，其中， 该基板处理系统具有： 批量处理部，其成批地处理以第1间距包含多片基板的批次； 单片处理部，其逐片处理所述批次的所述基板；以及 接口部，其在所述批量处理部和所述单片处理部之间交接所述基板， 所述批量处理部包括：处理槽，其贮存块状或雾状的处理液；第1保持器具，其将所述基板以所述第1间距保持；以及第2保持器具，其在所述处理液中从所述第1保持器具接收以第2间距排列的所述基板，所述第2间距为所述第1间距的N倍，N为2以上的自然数， 所述接口部包括输送部，该输送部将在所述处理液中被分开保持在所述第1保持器具和所述第2保持器具的所述基板从所述批量处理部向所述单片处理部输送， 该基板处理系统还具有送入送出部，该送入送出部用于送入送出将多片所述基板以所述第2间距收纳的盒， 所述送入送出部、所述单片处理部、所述接口部、所述批量处理部以所述送入送出部、所述单片处理部、所述接口部、所述批量处理部的顺序排列， 所述接口部包括用于形成所述批次的批次形成部。

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