三星显示有限公司金柾勋获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利制造掩模的方法和制造显示装置的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113388804B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110263540.9，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权制造掩模的方法和制造显示装置的方法是由金柾勋;晋丞民;洪宰敏设计研发完成，并于2021-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造掩模的方法和制造显示装置的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了制造掩模的方法和制造显示装置的方法。具体地，提供的是制造被配置为最小化阴影效应的具有高精度的掩模的方法以及制造显示装置的方法。制造掩模的方法包括：拉紧掩模板；将拉紧的掩模板结合至掩模框；以及通过在掩模板上照射激光而在掩模板中形成开口，使得开口的内壁相对于掩模板的表面具有斜坡。
本发明授权制造掩模的方法和制造显示装置的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造掩模的方法，所述方法包括： 拉紧掩模板； 将拉紧的所述掩模板结合至掩模框； 通过在所述掩模板上照射激光而在所述掩模板中形成开口，使得所述开口的内壁相对于所述掩模板的表面具有斜坡； 在两个相邻的开口之间形成所述掩模板的第一部分，所述第一部分包括第一表面、第二表面以及外侧表面，所述第一表面面对所述掩模框，所述第二表面与所述第一表面相对，并且所述外侧表面将所述第一表面连接至所述第二表面；以及 形成在所述掩模框的相反方向上从所述第一部分突出的第二部分， 其中，所述第二部分的表面比所述第一部分的所述第二表面更远离所述掩模框，并且 其中，所述第二部分的所述表面的宽度小于所述第一部分的所述第二表面的宽度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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