TCL科技集团股份有限公司吴劲衡获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL科技集团股份有限公司申请的专利量子点复合材料及其制备方法、发光器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114479826B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011164654.X,技术领域涉及:C09K11/02;该发明授权量子点复合材料及其制备方法、发光器件是由吴劲衡;吴龙佳;何斯纳设计研发完成,并于2020-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本量子点复合材料及其制备方法、发光器件在说明书摘要公布了:本申请属于光电技术领域,尤其涉及量子点复合材料及其制备方法,以及发光器件。其中,量子点复合材料包括:量子点材料和金属二维烯材料和或硫化金属二维烯材料。本申请量子点复合材料中,金属二维烯材料和或硫化金属二维烯材料可以为量子点材料表面的电荷提供高迁移率的传输通道,减小量子点表面的电荷积累;同时可以提高量子点材料的散热性能,当应用于发光器件时,可降低器件发光区域的工作温度,从而提高器件的稳定性和安全性,延长使用寿命。
本发明授权量子点复合材料及其制备方法、发光器件在权利要求书中公布了:1.一种量子点复合材料,其特征在于,所述量子点复合材料包括量子点材料,并且还包括金属二维烯材料和或硫化金属二维烯材料;所述金属二维烯材料选自:锗烯、锡烯、铅烯中的至少一种;所述硫化金属二维烯材料选自:硫化锗烯、硫化锡烯、硫化铅烯中的至少一种;所述硫化金属二维烯材料中,0.5%~5%的烯烃共轭键被硫化加成;所述金属二维烯材料和所述硫化金属二维烯材料的总质量与所述量子点材料的质量比为1:15~30;所述金属二维烯材料的片径为0.5~5nm;所述硫化金属二维烯材料的片径为0.5~5nm。
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