东京毅力科创株式会社尤凯鸿获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利在凹陷特征中自底向上金属化的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114600232B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080064711.9，技术领域涉及：H10W20/41；该发明授权在凹陷特征中自底向上金属化的方法是由尤凯鸿;约迪·格热希科维亚克;尼古拉斯·乔伊;杰弗里·史密斯设计研发完成，并于2020-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本在凹陷特征中自底向上金属化的方法在说明书摘要公布了：金属化的方法包括接收在其中形成有凹陷的衬底。该凹陷具有底部和侧壁，并且在凹陷的底部和侧壁上沉积共形衬里。从凹陷的上部去除共形衬里，以露出凹陷的上侧壁，同时留下凹陷的下部中的共形衬里，从而覆盖凹陷的底部和下侧壁。在凹陷的下部中沉积金属以形成金属化特征，该金属化特征包括在凹陷的下部中的共形衬里和金属。
本发明授权在凹陷特征中自底向上金属化的方法在权利要求书中公布了：1.一种金属化的方法，所述方法包括： 接收在其中形成有凹陷的衬底，所述凹陷具有底部和侧壁； 在所述凹陷的底部和侧壁上沉积共形衬里； 从所述凹陷的上部去除所述共形衬里以露出所述凹陷的上侧壁，同时留下所述凹陷的下部中的共形衬里，从而覆盖所述凹陷的底部和下侧壁；以及 在所述凹陷的下部中选择性地沉积金属以形成金属化特征，所述金属化特征包括所述凹陷的下部中的共形衬里和所述金属，其中，所述选择性地沉积金属包括仅在所述共形衬里上沉积自组装单层和仅在所述自组装单层上沉积金属，所述自组装单层是金属成核的前体。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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