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龙图腾网获悉北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利经化学修饰的氧化石墨烯、显示装置及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115172628B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210764876.8，技术领域涉及：H10K50/844；该发明授权经化学修饰的氧化石墨烯、显示装置及其制备方法是由王好伟设计研发完成，并于2022-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本经化学修饰的氧化石墨烯、显示装置及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体显示装置领域，尤其涉及经化学修饰的氧化石墨烯、显示装置及其制备方法。经化学修饰的氧化石墨烯包括氧化石墨烯本体和结合在所述氧化石墨烯本体上的氧化石墨烯配体，所述氧化石墨烯本体上形成有含氧基团，所述氧化石墨烯配体结合在所述含氧基团上，所述氧化石墨烯配体在光照下可发生交联反应。在形成量子点膜层之后，在量子点膜层之上设置一层可光交联的经化学修饰的氧化石墨烯，在相应区域曝光后，相应曝光区域的位置的经化学修饰的氧化石墨烯交联，形成致密的单分子保护层，在使用强效显影剂消除量子点残留的同时，能够保护需要保留的量子点不受破坏或者清除，避免显示装置的失效。

本发明授权经化学修饰的氧化石墨烯、显示装置及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种显示装置，其特征在于，包括量子点膜和形成于所述量子点膜表面的氧化石墨烯薄膜，所述氧化石墨烯薄膜包括经化学修饰的氧化石墨烯，所述经化学修饰的氧化石墨烯之间通过所述氧化石墨烯配体交联结合； 所述经化学修饰的氧化石墨烯包括氧化石墨烯本体和结合在所述氧化石墨烯本体上的氧化石墨烯配体，所述氧化石墨烯本体上形成有含氧基团，所述氧化石墨烯配体结合在所述含氧基团上，所述氧化石墨烯配体在光照下可发生交联反应； 所述氧化石墨烯配体包括依次通过化学键连接的第一配位基团、第一连接基团和第一交联基团，所述第一配位基团与所述含氧基团结合，所述第一交联基团用于在光照下发生交联反应； 所述含氧基团为环氧基、羟基、羧基和羰基中的至少一种； 所述第一配位基团为氨基、多氨基、羟基、多羟基、巯基、多巯基、硫醚基、多硫醚基、膦基或氧膦基； 所述第一连接基团为亚甲基、C2-8的直链烷基链、含有支链的主链2-8个C原子的烷基链、叔丁基苯基、甲氧基或正丁氧基； 所述第一交联基团为双键基团、三键基团、环氧基团、氨基、羟基或巯基。

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