深圳市德明利光电有限公司潘德烈获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市德明利光电有限公司申请的专利一种垂直腔面发射激光器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115313151B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210923514.9，技术领域涉及：H01S5/183；该发明授权一种垂直腔面发射激光器是由潘德烈;李承远;李佳勋设计研发完成，并于2022-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种垂直腔面发射激光器在说明书摘要公布了：本申请公开了一种垂直腔面发射激光器，涉及半导体器件技术领域，本申请的垂直腔面发射激光器，包括层叠设置的衬底、底部电极、底部反射器、多量子阱层、顶部反射器以及顶部电极，顶部反射器中设置有电流限制层，其中，电流限制层包括电流限制区内以及电流限制区界定出的多个电流通道，多个电流通道之间间隔设置，多个电流通道低电阻，顶部电极与多个电流通道一一对应设置有多个通孔。本申请提供的垂直腔面发射激光器，能够均衡电流通道的电流密度，以使垂直腔面发射激光器的光斑模态趋于高斯模态。
本发明授权一种垂直腔面发射激光器在权利要求书中公布了：1.一种垂直腔面发射激光器，其特征在于，包括层叠设置的衬底、底部电极、底部反射器、多量子阱层、顶部反射器以及顶部电极，所述顶部反射器中设置有电流限制层，其中，所述电流限制层包括电流限制区以及所述电流限制区界定出的多个电流通道，多个所述电流通道间隔设置，多个所述电流通道低电阻，所述顶部电极与多个所述电流通道一一对应设置有多个通孔； 多个所述电流通道在所述衬底上的投影与多个所述通孔在所述衬底上的投影一一对应； 所述电流通道的孔径小于对应的所述通孔的孔径。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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