华翊博奥(北京)量子科技有限公司蔡明磊获国家专利权
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龙图腾网获悉华翊博奥(北京)量子科技有限公司申请的专利一种荧光成像装置、状态探测系统、离子阱及量子计算机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115372330B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211056803.X，技术领域涉及：G01N21/64；该发明授权一种荧光成像装置、状态探测系统、离子阱及量子计算机是由蔡明磊;梅全鑫;赵文定设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种荧光成像装置、状态探测系统、离子阱及量子计算机在说明书摘要公布了：本文公开一种荧光成像装置、状态探测系统、离子阱及量子计算机，荧光成像装置，包括：由第一物镜和抛物面镜组成的一级成像单元；其中，第一物镜：转换接收的原子荧光的发散角；抛物面镜：对转换发散角的原子荧光进行反射和聚焦处理，获得用于状态探测的成像。本发明实施例通过抛物面镜对原子荧光进行反射及聚焦处理，避免了使用透镜组对原子荧光进行聚焦处理时，由于原子荧光在透镜组中折射出现的球差和色差问题；抛物面镜替换复杂的透镜组，简化了荧光成像装置的光路组成。
本发明授权一种荧光成像装置、状态探测系统、离子阱及量子计算机在权利要求书中公布了：1.一种荧光成像装置，包括：由第一物镜和抛物面镜组成的一级成像单元；其中， 第一物镜：转换接收的原子荧光的发散角； 抛物面镜：对转换发散角的原子荧光进行反射和聚焦处理，获得用于状态探测的成像； 其中，所述第一物镜是设置为：转换所述原子荧光的发散角，将所述原子荧光转换为平行光；所述抛物面镜的焦距为百毫米量级；所述抛物面镜为凹面；抛物面镜为抛物面反射镜；所述原子荧光经过所述第一物镜之后的光在所述抛物面镜的投影面积小于所述抛物面镜的镜面面积。
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