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龙图腾网获悉上海微高精密机械工程有限公司申请的专利一种适用于光刻机照明系统的匀光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115469513B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211174406.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种适用于光刻机照明系统的匀光方法是由王童讴;张华杰;王洪卫;谢纪辰;刘玉国设计研发完成，并于2022-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种适用于光刻机照明系统的匀光方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种适用于光刻机照明系统的匀光方法，属于光刻机照明系统技术领域，包括以下步骤：首先利用lighttools建立该校正板的模型，在校正板表面镀上圆点；设定所述圆点的半径、厚度、X方向间距和Y方向间距；再设定lighttools中的光源属性，并使得不均匀的光通过所述校正板到达接收表面的接收器；然后再分别将所述圆点在XY两个方向上的间距添加为优化变量，并在接收器上添加网格评价函数，将网格数据中的变化设置为基于总功率的缩放目标这一功能进行光均匀性的调整；之后lighttools会对当前建立的模型进行优化，得到优化后的XY方向间距；本发明提供的方法适用性更广，且能使光均匀性提升到90％以上，同时也可以避免光强产生过大的损耗，从而保证光刻的稳定性。

本发明授权一种适用于光刻机照明系统的匀光方法在权利要求书中公布了：1.一种适用于光刻机照明系统的匀光方法，其特征在于，包括以下步骤： 首先利用lighttools建立校正板的模型，使用一块89mm*89mm厚度为2.1mm的校正板，并在该校正板表面上通过三维纹理的方式，使得表面镀上圆点，仿真时取5mm*5mm大小的校正板用以观测； 其次设定圆点的半径和厚度分别为0.0023mm、0.005mm；再分别设定相邻圆点在X方向间距为0.07mm，Y方向间距为0.08mm； 再设定lighttools中的光源属性，光源为空间分布，光均匀性为60％，并使得不均匀的光通过所述校正板到达接收表面的接收器，光源和所述校正板间距为0.01mm，所述校正板与接收器的间距同样为0.01mm； 然后再分别将所述圆点在XY两个方向上的间距添加为优化变量，并在接收器上添加网格评价函数，将网格数据中的变化设置为基于总功率的缩放目标这一功能进行光均匀性的调整； 之后lighttools会对当前建立的模型进行优化，得到优化后的XY方向间距； 所述校正板为1～3块单校正板组合在一起的。

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