深圳市德方创域新能源科技有限公司万远鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市德方创域新能源科技有限公司申请的专利两元补锂添加剂及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115692696B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110879238.6，技术领域涉及：H01M4/62；该发明授权两元补锂添加剂及其制备方法与应用是由万远鑫;王亚雄;孔令涌;裴现一男;钟泽钦设计研发完成，并于2021-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本两元补锂添加剂及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种两元补锂添加剂及其制备方法和其应用。本发明两元补锂添加剂包括碳基体和分散在碳基体中的两元补锂材料，且至少所述碳基体表层的碳层为密实碳层，所述两元补锂材料的分子式为LiaaXbb；其中，1≤a≤3,1≤b≤3，X选自F、S、N、B、P、O、Se中的任一种。本发明两元补锂添加剂所含的两元补锂材料富含锂，保持电池体系内锂离子的充裕，提高电池首效和整体电化学性能。所含的碳基体将两元补锂材料分散在该碳基体中，保证两元补锂材料的稳定性，实现稳定的补锂效果。其制备方法能够保证制备的两元补锂添加剂结构和电化学性能稳定，节约生产成本。两元补锂添加剂在正极补锂添加剂、正极材料、正极和锂离子电池中应用。
本发明授权两元补锂添加剂及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种两元补锂添加剂，其特征在于：包括碳基体和分散在碳基体中的两元补锂材料，且至少所述碳基体表层的碳层为密实碳层，所述两元补锂材料的分子式为LiaXb；其中，1≤a≤3,1≤b≤3，X选自F、S、N、B、P、O、Se中的任一种； 所述密实碳层的孔隙率为0.1%-1%； 所述两元补锂材料为颗粒形貌，所述两元补锂材料与所述碳基体构成石榴状结构，所述两元补锂材料的粒径为20-100nm。
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