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龙图腾网获悉昕诺飞控股有限公司申请的专利具有高CRI的高强度光源获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115917212B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180043011.6，技术领域涉及：F21V9/30；该发明授权具有高CRI的高强度光源是由R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔;M·P·J·皮特斯设计研发完成，并于2021-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有高CRI的高强度光源在说明书摘要公布了：本发明提供光生成设备1000，其中：I光生成设备1000包括：a第一光源110，该第一光源被配置为生成具有第一光源光谱功率分布的第一光源光111，其中第一光源110包括第一激光光源10，该第一激光光源被配置为生成第一激光光源光11；b第一发光材料210，该第一发光材料被配置为将第一光源光111的至少一部分转换成具有第一发光材料光谱功率分布的第一发光材料光211，该第一发光材料光谱功率分布具有在从590nm‑780nm的波长范围中选择的一个或多个波长处的发射，其中第一发光材料210被配置在光学谐振器230中；II第一光源110和第一发光材料210被配置为生成具有第一发光材料激光光谱功率分布的第一发光材料激光1211，第一发光材料激光光谱功率分布包括第一发光材料光211的至少一部分；III第一光源光谱功率分布和第一发光材料激光光谱功率分布相互不相同；以及IV光生成设备1000被配置为在一个或多个操作模式中生成包括第一发光材料激光1211的白色设备光1001。

本发明授权具有高CRI的高强度光源在权利要求书中公布了：1.一种光生成设备1000，其中： -所述光生成设备1000包括：a第一光源110，所述第一光源被配置为生成具有第一光源光谱功率分布的第一光源光111，其中所述第一光源110包括第一激光光源10，所述第一激光光源10被配置为生成第一激光光源光11；b第一发光材料210，所述第一发光材料被配置为将所述第一光源光111的至少一部分转换成具有第一发光材料光谱功率分布的第一发光材料光211，所述第一发光材料光谱功率分布具有在从590nm-780nm的波长范围中选择的一个或多个波长处的发射，其中所述第一发光材料210被配置在光学谐振器230中；c第二光源120，所述第二光源被配置为生成具有第二光源光谱功率分布的第二光源光121，其中所述第二光源120包括第二激光光源20，所述第二激光光源20被配置为生成第二激光光源光21；以及d第二发光材料220，所述第二发光材料被配置为转换以下中的一项或多项的至少一部分以提供第二发光材料光：i所述第一激光光源光11和ii所述第二激光光源光21； -所述第一光源110和所述第一发光材料210被配置为生成具有第一发光材料激光光谱功率分布的第一发光材料激光1211，所述第一发光材料激光光谱功率分布包括所述第一发光材料光211的至少一部分； -所述第一光源光谱功率分布和所述第一发光材料激光光谱功率分布相互不相同； -所述光生成设备1000被配置为在一个或多个操作模式中生成白色设备光1001，所述白色设备光包括所述第一发光材料激光1211和所述第二发光材料光221； -并且其中所述第二发光材料220包括Yx1-x2-x3AX2CeX33Aly1-y2By25O12，其中x1+x2+x3=1，其中x30，其中0x2+x30.2，其中y1+y2=1，其中0y20.2，其中A包括从由镧系元素和钪组成的组中选择的一种或多种元素，并且其中B包括从由Ga和In组成的组中选择的一种或多种元素，其中最多10%的Al-O能够被Si-N代替。

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