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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利天线及其制备方法、通信系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115943528B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180001431.8，技术领域涉及：H01Q1/38；该发明授权天线及其制备方法、通信系统是由张东东;吴倩红;张亚飞;王亚丽;曲峰设计研发完成，并于2021-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本天线及其制备方法、通信系统在说明书摘要公布了：本公开提供一种天线及其制备方法、通信设备，属于通信技术领域。本公开的天线，其包括：介质层；第一电极，设置在所述介质层上，且所述第一电极具有至少一个第一开口；至少一个辐射结构，设置在所述介质层上，且与所述参考电极位于所述介质层的不同侧；一个所述辐射结构在所述介质层上的正投影位于一个所述第一开口在所述介质层的正投影内；一个所述辐射结构包括第二电极和第三电极，第二电极与所述第三电极在介质层上的正投影位于第一开口在介质层上的正投影内，且第二电极在介质层上的正投影与第三电极在介质层上的正投影无交叠；至少一条第一馈线和至少一条第二馈线，设置在介质层上，且与第一电极位于介质层的不同侧。

本发明授权天线及其制备方法、通信系统在权利要求书中公布了：1.一种天线，其包括： 介质层； 第一电极，设置在所述介质层上，且所述第一电极具有至少一个第一开口；在所述第一开口内填充有第一冗余电极，所述第一冗余电极与所述第一电极同层设置；所述第一冗余电极包括金属网格结构，且所述第一冗余电极与所述第一电极在结构上断开且二者相互电隔离； 至少一个辐射结构，设置在所述介质层上，且与所述第一电极位于所述介质层的不同侧；一个所述辐射结构包括第二电极和第三电极，所述第二电极与所述第三电极在所述介质层上的正投影位于所述第一开口在所述介质层上的正投影内，且所述第二电极在所述介质层上的正投影与所述第三电极在所述介质层上的正投影无交叠； 至少一条第一馈线和至少一条第二馈线，设置在所述介质层上，且与所述第一电极位于所述介质层的不同侧；一条所述第一馈线被配置为一个所述第二电极进行馈电，一条所述第二馈线被配置为一个所述第三电极进行馈电，且所述第一馈线的馈电方向与所述第二馈线的馈电方向不同； 所述介质层为单层结构；或者，所述介质层包括叠层设置的第一子介质层、第一粘结层、第二子介质层； 当所述介质层包括叠层设置的第一子介质层、第一粘结层、第二子介质层，所述第一电极设置在所述第一子介质层背离所述第一粘结层的一侧，所述第二电极设置在所述第一粘结层靠近所述第一子介质层的一侧，所述第三电极设置在所述第二子介质层背离所述第一粘结层的一侧。

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