迪盛(武汉)微电子科技有限公司陈国军获国家专利权
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龙图腾网获悉迪盛(武汉)微电子科技有限公司申请的专利一种曝光设备的拉料补偿方法、装置及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116068862B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211456817.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种曝光设备的拉料补偿方法、装置及存储介质是由陈国军;马迪;吴景舟设计研发完成，并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光设备的拉料补偿方法、装置及存储介质在说明书摘要公布了：本发明公开了一种曝光设备的拉料补偿方法、装置及存储介质，属于曝光技术领域。拉料补偿方法包括通过对位镜头获取未曝光区域中标记点的位置及上一次曝光区域中标记点的位置，确定曝光介质的实际拉动长度d1；根据期望的拉动长度d和实际拉动长度d1确定当前拉动曝光介质时产生的误差s；控制拉料机构在曝光机构完成曝光后按照长度d‑s拉动曝光介质，以将曝光介质上的未曝光区域移动至曝光机构中。本发明能够在每一次拉料完成后，计算拉料长度偏差，并在下一次拉料时补偿该偏差，使对位镜头可始终捕捉到标记点。
本发明授权一种曝光设备的拉料补偿方法、装置及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种曝光设备的拉料补偿方法，所述曝光设备包括用于将曝光介质拉动一定长度的拉料机构和用于对曝光介质进行曝光的曝光机构，所述曝光机构包括曝光镜头和对位镜头，所述曝光介质沿其长度方向设有若干个间隔分布的标记点，其特征在于，所述拉料补偿方法包括： 通过所述对位镜头获取未曝光区域中标记点的位置及上一次曝光区域中标记点的位置，确定曝光介质的实际拉动长度d1； 根据期望的拉动长度d和实际拉动长度d1确定当前拉动曝光介质时产生的误差s； 控制拉料机构在曝光机构完成曝光后按照长度d-s拉动曝光介质，以将曝光介质上的未曝光区域移动至曝光机构中。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人迪盛(武汉)微电子科技有限公司，其通讯地址为：430000 湖北省武汉市经济技术开发区8MC地块(车城南路69号)内出口加工区B栋标准厂房, 第2层2-67区；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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