三菱瓦斯化学株式会社堀江宏彰获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉三菱瓦斯化学株式会社申请的专利半导体基板清洗用组合物和清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116235282B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180065750.5，技术领域涉及：H10P52/00；该发明授权半导体基板清洗用组合物和清洗方法是由堀江宏彰;堀田明伸;浜中谅;岛田宪司;菊永孝裕设计研发完成，并于2021-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体基板清洗用组合物和清洗方法在说明书摘要公布了：一种半导体基板清洗用组合物，其含有：过氧化氢A、过氧化氢稳定剂B、碱化合物C和水，过氧化氢稳定剂B为选自由草酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、草酸钾、5‑苯基‑1H‑四唑、三亚乙基四胺六乙酸、反式‑1,2‑环己二胺四乙酸、8‑羟基喹啉、L+‑异亮氨酸、DL‑缬氨酸、L‑‑脯氨酸、羟乙基乙二胺三乙酸、N,N‑二2‑羟乙基甘氨酸、甘氨酸、L‑色氨酸、2,6‑吡啶二羧酸、苯并噻唑、和DL‑丙氨酸组成的组中的至少1者，碱化合物C为选自由氢氧化季铵C1和氢氧化钾C2组成的组中的至少1者。
本发明授权半导体基板清洗用组合物和清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体基板清洗用组合物，其含有：过氧化氢A、过氧化氢稳定剂B、碱化合物C和水， 过氧化氢稳定剂B为选自由草酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、草酸钾、5-苯基-1H-四唑、三亚乙基四胺六乙酸、反式-1,2-环己二胺四乙酸、8-羟基喹啉、L+-异亮氨酸、DL-缬氨酸、L--脯氨酸、羟乙基乙二胺三乙酸、N,N-二2-羟乙基甘氨酸、甘氨酸、L-色氨酸、2,6-吡啶二羧酸、苯并噻唑、和DL-丙氨酸组成的组中的至少1者， 碱化合物C由氢氧化季铵C1和氢氧化钾C2组成， 氢氧化季铵C1的含量在半导体基板清洗用组合物中为0.005～10质量％， 氢氧化钾C2的含量在半导体基板清洗用组合物中为0.005～5质量％， 所述半导体基板清洗用组合物还含有氨基多亚甲基膦酸D， 氨基多亚甲基膦酸D的含量在半导体基板清洗用组合物中为0.00005～0.005质量％。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三菱瓦斯化学株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励