应用材料公司列文特·科拉克获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于制造光学器件结构的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116490806B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063159.6，技术领域涉及：G02B27/10；该发明授权用于制造光学器件结构的方法是由列文特·科拉克;卢多维克·戈代;安德烈·P·拉邦特设计研发完成，并于2021-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于制造光学器件结构的方法在说明书摘要公布了：本文所述的实施方式提供了形成光学器件结构的方法。该方法利用基板的旋转来在该基板上形成光学器件结构，并且利用设置在基板上方的图案化抗蚀剂及器件层或基板中的一者的蚀刻速率的可调谐性来形成光学器件结构，而无需多个光刻图案化步骤及成角度蚀刻步骤。
本发明授权用于制造光学器件结构的方法在权利要求书中公布了：1.一种形成闪耀光学器件结构的方法，包括以下步骤： 在射束路径中以第一旋转角φ1定位基板，所述射束被配置为以相对于所述基板的表面法线的射束角ϑ投射至所述基板的表面，所述基板具有形成在其上方的图案化的抗蚀剂，所述图案化的抗蚀剂包括： 两个或更多个抗蚀剂结构，所述抗蚀剂结构中的每一者具有宽度；以及 一个或多个间隙，所述间隙中的每一者由相邻的抗蚀剂结构限定并且具有由所述相邻的抗蚀剂结构限定的线宽； 用所述射束蚀刻定位于所述第一旋转φ1处的所述基板； 将所述基板旋转至第二旋转角φ2，并蚀刻朝向所述射束定向的所述抗蚀剂结构的侧壁，使得所述抗蚀剂结构的所述宽度减小并且所述间隙的所述线宽增大； 将所述基板旋转至所述第一旋转角度φ1，并用所述射束蚀刻位于所述第一旋转角φ1处的所述基板；以及 在所述基板中形成两个或更多个光学器件结构，形成所述光学器件结构的步骤包括以下步骤： 重复地将所述基板旋转至所述第二旋转角φ2并用所述射束蚀刻所述抗蚀剂结构的侧壁，以及将所述基板旋转至所述第一旋转角φ1并用所述射束蚀刻所述基板，直到所述抗蚀剂结构被移除或者所述间隙的所述线宽具有预定线宽。
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