科磊股份有限公司N·哈克获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利计算机辅助弱图案检测及鉴定系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116681676B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310673557.0，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权计算机辅助弱图案检测及鉴定系统是由N·哈克;A·帕克;A·古普塔设计研发完成，并于2017-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本计算机辅助弱图案检测及鉴定系统在说明书摘要公布了：本申请涉及计算机辅助弱图案检测及鉴定系统。弱图案检测及鉴定系统可包含经配置以检验晶片及检测存在于所述晶片上的缺陷的晶片检验工具。所述系统还可包含与所述晶片检验工具通信的至少一个处理器。所述至少一个处理器可经配置以：基于所述晶片的设计对所述所检测缺陷执行图案分组；基于所述图案分组识别所关注区域；识别含于所述经识别所关注区域中的弱图案，所述弱图案是偏离所述设计达大于阈值的量的图案；验证所述经识别弱图案；及报告所述经验证弱图案或基于所述经验证弱图案促成所述晶片的所述设计的修正。
本发明授权计算机辅助弱图案检测及鉴定系统在权利要求书中公布了：1.一种系统，其包括： 至少一个处理器，其与晶片检验工具通信，所述至少一个处理器经配置以从所述晶片检验工具接收经检测缺陷： 基于所述晶片的设计对所述经检测缺陷执行图案分组； 基于所述图案分组自动地识别所关注区域； 识别含于经识别所关注区域中的弱图案，所述弱图案是偏离所述设计达大于阈值的量的图案； 通过以下方式验证经识别弱图案： 执行图案搜索过程以界定所述经识别弱图案中的一或多个周围的一或多个热点检验关注区域； 使用至少一个所述晶片检验工具或第二晶片检验工具来重检所述一或多个热点检验关注区域内的缺陷；以及 对所述缺陷执行图案保真度测量以确定所述一或多个经识别弱图案的局部CD变化；以及 报告经验证弱图案或基于所述经验证弱图案促成所述晶片的所述设计的修正。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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