北京化工大学杨冬芝获国家专利权
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龙图腾网获悉北京化工大学申请的专利具备动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118578739B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410757738.6，技术领域涉及：B32B27/28；该发明授权具备动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料及其制备方法是由杨冬芝;李白雪;于中振设计研发完成，并于2024-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本具备动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种具有动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料及其制备方法、用途，所述复合膜材料为三层非对称结构，第一外层为反射太阳光和透过红外辐射的纳米多孔膜，中间层为均匀致密的吸收太阳光、反射红外辐射和屏蔽电磁干扰的MXene层，第二外层为具有图案化阵列设计的太阳光高透过和红外高发射率的隔热PDMS层。本申请提出的具有非对称结构的光谱选择性纳米多孔膜MXene图案化PDMS复合膜材料，能够在高、低温和湿度条件下均具有良好的红外隐身、电磁屏蔽和热管理性能，能够应用于复杂动态场景下的屏蔽隐身和热管理领域。
本发明授权具备动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有动态红外隐身、电磁屏蔽和热管理功能的复合膜材料，其特征在于， 所述复合膜材料为三层非对称结构，第一外层为反射太阳光和透过红外辐射的纳米多孔膜，中间层为均匀致密的吸收太阳光、反射红外辐射和抗屏蔽电磁干扰的MXene层，第二外层为具有图案化阵列设计的太阳光高透过和红外高发射率的隔热PDMS层， 所述第二外层图案化PDMS层的图案设计为平面，或5×5、10×10、20×20和40×40锥体阵列中的任一种，或5×5、10×10、20×20和40×40柱体阵列中的任一种。
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