之江实验室钟景山获国家专利权
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龙图腾网获悉之江实验室申请的专利用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119828420B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510039558.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统是由钟景山;王智;庄文秀设计研发完成，并于2025-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统在说明书摘要公布了：本申请涉及用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统，其中，该光刻校准方法包括：校准物镜将第一散射光束准直为校准准直光束；其中，投影物镜将光源发射的待调制光束汇聚在散射介质上，经散射介质将待调制光束散射为第一散射光束；校准物镜与散射介质的距离为预设对焦距离；校准会聚透镜于将接收到的校准准直光束会聚为校准光束；校准相机接收校准光束并进行拍摄，得到校准图像；校准控制器根据校准图像生成散射介质传输矩阵，并基于散射介质传输矩阵，校准光刻系统。通过本申请，解决了如何在确保光刻图案达到高精度要求的同时，有降低其生产成本的问题，实现了低成本、高分辨率的光刻效果。
本发明授权用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻系统的光刻校准设备，其特征在于，所述光刻系统包括：光源、投影物镜和散射介质；所述光刻校准设备包括： 校准物镜，用于将第一散射光束准直为校准准直光束；其中，所述第一散射光束是由所述投影物镜将所述光源发射的待调制光束汇聚在所述散射介质上，经所述散射介质将所述待调制光束散射生成的；所述校准物镜与所述散射介质的距离，基于待光刻晶圆与所述散射介质的距离确定； 校准会聚透镜，用于将接收到的所述校准准直光束会聚为校准光束； 校准相机，用于接收所述校准光束并进行拍摄，得到校准图像； 校准控制器，用于根据所述校准图像，校准所述光刻系统；所述校准控制器还用于基于所述校准图像，提取所述校准光束的校准光强数据和校准幅值，将所述校准光强数据和所述校准幅值输入参数优化模型，利用所述参数优化模型生成散射介质传输矩阵；所述校准控制器还用于利用所述散射介质传输矩阵，校准所述光刻系统。
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