杭州先研科技有限公司;浙江大学高翔获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州先研科技有限公司;浙江大学申请的专利一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119930894B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411936966.6，技术领域涉及：C08F212/14；该发明授权一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂及其制备方法是由高翔;刘光举;李娜设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂及其制备方法和应用。该光刻胶树脂如下式。本发明通过下述反应过程制得该PAG键接型树脂：1对乙酰氧基苯乙烯、对苯乙烯磺酰亚胺三氟甲基钾盐和RAFT链转移剂在引发剂的作用下进行RAFT聚合反应获得中间体I，2中间体I进行水解反应得中间体II，3中间体II与二碳酸二叔丁酯的引入保护基团反应得中间体III；4中间体Ⅲ和三苯基溴化锍的离子交换反应。本发明实现了将PAG键接入树脂骨架中，改善了PAG与树脂相容性差、发生相分离、PAG分布不均匀等问题。由此，该树脂制得的光刻胶由于光生酸受到聚合物主链的束缚、扩散受限，提高了分辨率，光刻效果优异。
本发明授权一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种PAG键接型光敏性光刻胶树脂，其特征在于，所述PAG键接型光敏性光刻胶树脂的结构式如下： 其中，X:Y:Z=1-70:20-80:1-30。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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