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龙图腾网获悉深圳市亿歌润滑科技有限公司申请的专利一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120348952B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510495662.9，技术领域涉及：C01B33/18；该发明授权一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法是由张立军;陈素娟设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法，改性装置包括等离子体活化模块、离子束辅助沉积模块、超声波空化模块、真空吸附模块和低温固化单元；改性方法包括S1.等离子体预处理：在混合气氛下，采用Ar++束流轰击纳米二氧化硅表面；S2.原位协同接枝改性：将硅烷偶联剂KH‑570、全氟辛基三乙氧基硅烷及离子液体改性剂混合，超声分散30min后真空吸附定向成膜；S3.离子束辅助沉积导电层：在真空腔体内交替沉积ITO导电层及氟碳壳层；S4.低温固化：采用O‑‑束流触发氟碳键重排，UV‑LED照射并远红外加热至75℃，交联密度≥85％，制备出的纳米二氧化硅防污镀膜剂有着优异的抗静电、增透性和耐磨性，且附着力较高。

本发明授权一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种应用于纳米二氧化硅防污镀膜剂的改性装置，其特征在于，包括等离子体活化模块，模块内设置有大气压介质阻挡放电等离子体发生器、氩气氧气混合气源和拉曼光谱传感器，模块用于通过多变量PID算法动态调节等离子体功率密度和气体比例，使羟基密度稳定； 还包括离子束辅助沉积模块和超声波空化模块，所述离子束辅助沉积模块内设置有双等离子体离子源、磁过滤装置和ITO靶材，所述离子束辅助沉积模块用于在真空腔体内交替沉积导电层与氟碳改性剂，沉积速率控制为0.5nms；所述超声波空化模块内设置有高频超声波换能器和压电式压力传感器，所述超声波空化模块用于根据纳米颗粒D50粒径反馈信号，当检测到D5050nm时自动提升转速至320rpm并调整倾角至50°； 还包括真空吸附模块和低温固化单元，所述真空吸附模块内设置有激光干涉仪和真空梯度控制器，所述真空吸附模块用于通过吸附时间与压力梯度联动控制，维持镀膜厚度；所述低温固化单元内设置有远红外辐射加热装置、热成像仪和UV-LED阵列，所述低温固化单元用于根据镀膜厚度分布数据分区调节辐射强度。

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