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龙图腾网获悉武汉华日科仪激光科技有限公司申请的专利一种电路板瑕疵点清除设备及清除方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120985108B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511501899.X，技术领域涉及：B23K26/36；该发明授权一种电路板瑕疵点清除设备及清除方法是由刘奥;蔡伟;何放设计研发完成，并于2025-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电路板瑕疵点清除设备及清除方法在说明书摘要公布了：本发明属于电路板加工技术领域，具体提供了一种电路板瑕疵点清除方法，包括以下步骤：S1、切换多色光源分别环绕照射待处理电路板，采集各色光源下电路板图像；S2、识别各图像中基材和瑕疵点，整合形成瑕疵点分布图；S3、根据瑕疵点分布图设置激光器的激光参数及扫描路径；S4、激光扫描瑕疵点，同时监测激光加工深度，至完成瑕疵点清除。通过多套光源系统优化成像识别效果，同时选用合适的激光器参数，实现了自动化去除线路板瑕疵点，不仅大幅度提升了加工效率、修复精度，确保了对应的加工要求。此外，本发明通过重新设计激光加工光路和成像光路，实现加工光路和成像系统同轴，实时检测加工效果，降低对基材损伤。

本发明授权一种电路板瑕疵点清除设备及清除方法在权利要求书中公布了：1.一种电路板瑕疵点清除方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、切换多色光源分别环绕照射待处理电路板，采集各色光源下电路板图像； S2、识别各图像中基材和瑕疵点，整合形成瑕疵点分布图； S3、根据瑕疵点分布图和基材损伤要求设置激光器的激光参数及扫描路径；对于损伤要求10um内基材，激光参数设置为波段532nm，功率60-300mW，飞秒，光斑大小为2-3um，扫描速度为2-3um一个脉冲点；对于损伤要求15um内基材，激光参数设置为波段532nm，功率1W内，皮秒，光斑大小为2-3um，扫描速度为2-3um一个脉冲点；对于损伤要求25um内基材，激光参数设置为波段355nm，功率1-3W，纳秒，光斑大小为2-3um，扫描速度为2-3um一个脉冲点，或波段532nm，功率1-3W，皮秒，光斑大小为2-3um，扫描速度为2-3um一个脉冲点； S4、激光扫描瑕疵点，同时监测激光加工深度，至完成瑕疵点清除。

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