广州方邦电子股份有限公司苏陟获国家专利权
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龙图腾网获悉广州方邦电子股份有限公司申请的专利电磁反射膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112886270B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911199553.3，技术领域涉及：H01Q15/14；该发明授权电磁反射膜是由苏陟;高强设计研发完成，并于2019-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本电磁反射膜在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电磁反射膜，至少包括第一反射层和第二反射层，第一反射层包括导电层和沿第一方向间隔设于导电层上的多个第一凸出结构，第二反射层层叠设置于第一反射层靠近第一凸出结构的一侧，第二反射层包括基板和沿第二方向间隔设于基板上的多个第二凸出结构，第二凸出结构位于基板远离第一反射层的一侧，电磁波可穿过第二反射层入射至第一反射层。该电磁反射膜通过设置第一凸出结构和第二凸出结构，使入射的电磁波在传播过程中发生反射和漫反射，改变电磁波原来的传播方向并使电磁波无序传播，进而可对一些区域信号屏蔽和增强指定范围内的电磁波强度。
本发明授权电磁反射膜在权利要求书中公布了：1.一种电磁反射膜，其特征在于，至少包括第一反射层1和第二反射层2，所述第一反射层1包括导电层10和沿第一方向间隔设于所述导电层10上的多个第一凸出结构11，所述第二反射层2层叠设置于所述第一反射层1靠近所述第一凸出结构11的一侧，所述第二反射层2包括基板20和沿第二方向间隔设于所述基板20上的多个第二凸出结构21，所述第二凸出结构21位于所述基板20远离所述第一反射层1的一侧，电磁波可穿过所述第二反射层2入射至所述第一反射层1； 电磁波在所述第一反射层1表面和所述第二反射层2的所述第二凸出结构21表面多次发生反射和漫反射，使电磁波传播方向发生改变并无序地向所述电磁反射膜的所述第二反射层2一侧传播； 沿所述第一方向，相邻两个第一凸出结构11的间距为第一反射间距，多个所述第一反射间距呈中部大两侧小的趋势设置，沿所述第二方向，相邻两个第二凸出结构21的间距为第二反射间距，多个所述第二反射间距呈中部大两侧小的趋势设置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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