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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板、其制作方法及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113990908B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111263047.3，技术领域涉及：H10K59/12；该发明授权显示基板、其制作方法及显示装置是由杨静;王晶;李然;田宏伟设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板、其制作方法及显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供的显示基板、其制作方法及显示装置，包括：衬底基板；发光材料层，位于衬底基板之上；多个第一超表面镜结构，位于发光材料层与衬底基板之间，多个第一超表面镜结构用于将发光材料层的发射光线转换成至少一种颜色的光；多个有机光探测器，位于发光材料层与衬底基板之间，有机光探测器设置于第一超表面镜结构的间隙处。

本发明授权显示基板、其制作方法及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，包括： 衬底基板； 发光材料层，位于所述衬底基板之上，所述发光材料层的发射光线为白光，第一颜色的光为红光、第二颜色的光为绿光、第三颜色的光为蓝光； 多个第一超表面镜结构，位于所述发光材料层与所述衬底基板之间，所述多个第一超表面镜结构用于将所述发光材料层的发射光线转换成至少一种颜色的光，所述多个第一超表面镜结构包括多个第一子超表面镜结构、多个第二子超表面镜结构、以及多个第三子超表面镜结构，所述第一子超表面镜结构包括多个第一纳米结构，所述第二子超表面镜结构包括多个第二纳米结构，所述第三子超表面镜结构包括多个第三纳米结构，所述第一纳米结构的高度、所述第二纳米结构的高度、以及所述第三纳米结构的高度大于或等于75nm且小于或等于85nm，每个所述第一子超表面镜结构中的相邻两个所述第一纳米结构之间具有第一间距、每个所述第二子超表面镜结构中的相邻两个所述第二纳米结构之间具有第二间距、以及每个所述第三子超表面镜结构中的相邻两个所述第三纳米结构之间具有第三间距，所述第一间距大于或等于150nm且小于或等于170nm，所述第二间距大于或等于230nm且小于或等于250nm，所述第三间距大于或等于350nm且小于或等于380nm； 多个有机光探测器，位于所述发光材料层与所述衬底基板之间，所述有机光探测器设置于所述第一超表面镜结构的间隙处； 多个第二超表面镜结构，所述第二超表面镜结构调控透过所述有机光探测器的指纹反射光线，使调控后的指纹反射光线在所述有机光探测器内发生谐振。

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