无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司杨国际获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请的专利一种喷淋头及电容耦合等离子体处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223828419U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520135598.9，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种喷淋头及电容耦合等离子体处理装置是由杨国际;张惠贤;沈大勇;杨文宾;戴尤燕设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种喷淋头及电容耦合等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及半导体加工技术领域，公开一种喷淋头及电容耦合等离子体处理装置。该喷淋头的一侧设置有冷却层，冷却层均匀设置有冷却流道，冷却流道用于流通控温介质；喷淋头的另一侧设置有喷淋层，喷淋层设置有气体腔，气体腔背离冷却层的一侧设置有喷淋板，喷淋板上设置有多个第一气孔；喷淋头设置有进气孔，进气孔的一端位于冷却层远离喷淋层的一侧，进气孔的另一端连通于气体腔。本实用新型将冷却层和喷淋层集成在一个喷淋头内，简化了安装和维护操作，降低了成本，显著提升了设备的可靠性和半导体制造的精度与一致性；解决了传统结构中外部冷却系统热损失较高的问题。
本实用新型一种喷淋头及电容耦合等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种喷淋头，其特征在于，所述喷淋头的一侧设置有冷却层11，所述冷却层11均匀设置有冷却流道111，所述冷却流道111用于流通控温介质； 所述喷淋头的另一侧设置有喷淋层12，所述喷淋层12设置有气体腔121，所述气体腔121背离所述冷却层11的一侧设置有喷淋板122，所述喷淋板122上设置有多个第一气孔1221； 所述喷淋头设置有进气孔，所述进气孔的一端位于所述冷却层11远离所述喷淋层12的一侧，所述进气孔的另一端连通于所述气体腔121。
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