安集微电子科技(上海)股份有限公司姚颖获国家专利权
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龙图腾网获悉安集微电子科技(上海)股份有限公司申请的专利一种化学机械抛光液及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN108250975B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201611231355.7，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液及其应用是由姚颖;荆建芬;杜玲曦;宋凯;蔡鑫元;张建;杨俊雅;潘依君;王春梅设计研发完成，并于2016-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高浓缩的化学机械抛光液及其应用，该抛光液包含二氧化硅颗粒、氨基硅烷类化合物、非离子表面活性剂。本发明的化学机械抛光液可以用于抛光二氧化硅、氮化硅和多晶硅，满足抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比要求，对硅片器件表面的平坦化有很强的矫正能力，能实现快速平坦化，提高工作效率，降低生产成本。
本发明授权一种化学机械抛光液及其应用在权利要求书中公布了：1.一种用于抛光二氧化硅、氮化硅和多晶硅的化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液由二氧化硅颗粒、氨基硅烷类化合物、非离子表面活性剂、水和pH调节剂组成； 所述非离子表面活性剂包含C10~18脂肪醇聚氧乙烯醚，n=7~30；C8~9烷基酚聚氧乙烯醚，n=8~200；C12~18脂肪胺聚氧乙烯醚，n=10~60中的一种或多种； 所述化学机械抛光液的pH值为3.0~6.0； 所述氨基硅烷类化合物包含氨丙基甲基二乙氧基硅烷、氨丙基甲基二甲氧基硅烷、氨丙基二甲基甲氧基硅烷、氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种； 所述二氧化硅颗粒的粒径为20～200nm；所述氨基硅烷类化合物的质量百分比浓度为0.005~0.3%；所述非离子表面活性剂的质量百分比浓度为0.001~0.5%； 所述二氧化硅颗粒的含量为0.5～30wt%。
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