西默有限公司;ASML荷兰有限公司W·E·康利获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司;ASML荷兰有限公司申请的专利用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787715B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080083808.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统是由W·E·康利;徐端孚设计研发完成，并于2020-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统在说明书摘要公布了：描述了增强被成像到衬底上的图案的目标特征。这可以包括在与一图案形成装置中的一个或更多个目标特征相邻的一个或更多个部位中将一个或更多个辅助特征添加到所述图案形成装置。基于所述衬底中的两个或更多个不同聚焦位置来添加所述一个或多个辅助特征。这也包括基于所述两个或更多个不同聚焦位置以及所添加的一个或更多个辅助特征来移位所述图案形成装置图案和或设计布局。这可能对于改善跨狭缝不对称性是有用的。将所述一个或更多个辅助特征添加到所述图案并且移位所述图案和或所述设计布局，通过减少由针对多焦点光刻成像设备的狭缝的跨狭缝不对称性所引起的移位来增强所述目标特征。这可以减少跨越整个成像场的所述移位。
本发明授权用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种其上具有指令的非暂时性计算机可读介质，所述指令在由计算机执行时使计算机： 在与一设计布局中的一个或更多个目标特征相邻的一个或更多个部位中将一个或更多个辅助特征放置在所述设计布局中，所述设计布局被配置成对衬底进行图案化，所述一个或更多个辅助特征基于衬底上的两个或更多个不同的聚焦位置而被放置；和 基于所述两个或更多个不同的聚焦位置以及所放置的一个或更多个辅助特征来移位所述设计布局，所述移位被配置成当所述一个或更多个目标特征在所述衬底上被图案化时增强所述一个或更多个目标特征。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西默有限公司;ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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