武汉德威汉克光电科技有限公司孙同勋获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉德威汉克光电科技有限公司申请的专利一种双发射光器件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223842196U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520600640.X，技术领域涉及：G02B6/42；该实用新型一种双发射光器件是由孙同勋设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双发射光器件在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种双发射光器件，包括壳体、容置腔室、第一耦合端、第二耦合端、第三耦合端、光发射器、尾纤、透镜台、透反射滤光片及调节结构。容置腔室用于容纳光发射器和其他光学元件，第一耦合端和第二耦合端正对设置，第三耦合端与二者垂直，分别耦合有光发射器和尾纤。透镜台位于容置腔室内中部，将光发射器的光路引导至尾纤，透反射滤光片安装在透镜台上，可通过调节结构进行角度调节，以优化光信号传输效率；调节结构包括固定块、顶杆、调节旋钮、限位滑块、导向滑槽、凹槽和拉簧；该结构可实现双方向高功率光发射，适应不同工作环境，具有高精度光耦合能力，适用于高功率光发射和高精度光耦合场景。
本实用新型一种双发射光器件在权利要求书中公布了：1.一种双发射光器件，其特征在于：包括壳体1，所述壳体1具有容置腔室2和与所述容置腔室2连通的第一耦合端3、第二耦合端4及第三耦合端5，所述第一耦合端3、第二耦合端4正对设置，所述第三耦合端5与所述第一耦合端3、第二耦合端4垂直，所述第一耦合端3与第三耦合端5分别耦合有光发射器6，所述第二耦合端4耦合有尾纤7，所述容置腔室2内中部设有透镜台8，所述透镜台8可将两个所述光发射器6的光路引导至尾纤7，所述透镜台8上还设有透反射滤光片9，所述容置腔室2内对应透反射滤光片9处设有可调节其角度的调节结构10。
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