京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司卢玉群获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利一种显示基板及显示屏获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223844193U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520334171.1，技术领域涉及：H10K59/122；该实用新型一种显示基板及显示屏是由卢玉群;李泽亮;张文轩;侯瑞;田佳峰;张少雄设计研发完成，并于2025-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示基板及显示屏在说明书摘要公布了：本实用新型实施例提供了一种显示基板及显示屏，坝结构包括有机层和水氧保护层，水氧保护层设置在显示基板的衬底与有机层之间，水氧保护层的高度高于第一连接区域的化学气相沉积层的高度；且水氧保护层的高度与第一连接区域的化学气相沉积层的高度的差大于预设阈值，第一连接区域为坝结构与外隔离柱之间的区域。因为水氧保护层传播水氧的效率低于有机层传播水氧的效率，如此可以降低水氧传播的效率，进一步可以减少GDSH的产生，提高显示质量。
本实用新型一种显示基板及显示屏在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括显示区，开孔区，围绕所述开孔区设置的隔离区；所述隔离区包括外隔离柱和内隔离柱，其中，所述外隔离柱设置在靠近所述开孔区的位置，所述内隔离柱设置在靠近显示区的位置； 所述显示基板还包括： 设置在所述外隔离柱和所述内隔离柱之间的坝结构；所述坝结构包括有机层和水氧保护层；所述水氧保护层设置在所述显示基板的衬底与所述有机层之间；所述水氧保护层传播水氧的效率低于所述有机层传播水氧的效率； 所述水氧保护层的高度高于第一连接区域的化学气相沉积层的高度；且所述水氧保护层的高度与所述第一连接区域的化学气相沉积层的高度的差大于预设阈值，所述第一连接区域为所述坝结构与外隔离柱之间的区域。
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