东京毅力科创株式会社久保明广获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片清洗装置和基片清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113223982B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110029564.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基片清洗装置和基片清洗方法是由久保明广;泷口靖史;小玉辉彦;冈本芳树设计研发完成，并于2021-01-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片清洗装置和基片清洗方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基片清洗装置和基片清洗方法，在清洗基片时，能够提高基片面内的杂质、颗粒等的除去率的均匀性。基片清洗装置能够将清洗部件抵接到圆形的基片的面，使上述基片与清洗部件相对地旋转来清洗上述面，上述清洗部件的与上述面接触的接触区域从基片中心侧以辐射状向基片周边侧扩展。
本发明授权基片清洗装置和基片清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种基片清洗装置，其特征在于： 能够将清洗部件抵接到圆形的基片的背面，使所述基片与清洗部件相对地旋转来清洗所述背面， 所述清洗部件包括与所述基片的所述背面的中央部接触的中央清洗部件和与所述基片的所述背面的周边部接触的周边清洗部件， 所述中央清洗部件和所述周边清洗部件的与所述背面接触的接触区域具有从基片中心侧以辐射状向基片周边侧扩展的俯视时为扇形的形状， 所述基片清洗装置包括： 吸附头，其水平地吸附保持所述基片的所述背面的不与所述中央部重叠的区域，由此水平地吸附保持所述基片；和 旋转吸盘，其水平地吸附保持所述基片的所述背面的所述中央部，由此水平地吸附保持所述基片，构成为能够绕铅垂轴旋转， 所述基片清洗装置构成为： 所述基片的所述背面的所述中央部在所述基片由所述吸附头吸附保持的状态下，被所述中央清洗部件清洗， 所述基片的所述背面的所述周边部在所述基片由所述旋转吸盘吸附保持的状态下，被所述周边清洗部件清洗。
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