美光科技公司N·R·塔皮亚斯获国家专利权
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龙图腾网获悉美光科技公司申请的专利具有粗糙材料填充物的集成组合件及形成集成组合件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114051654B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080048262.9，技术领域涉及：H10B41/27；该发明授权具有粗糙材料填充物的集成组合件及形成集成组合件的方法是由N·R·塔皮亚斯;A·李;A·W·扎克斯勒;K·舍罗特瑞;E·R·拜尔斯;M·J·金;D·T·N·德兰;吴慧盈;A·A·汗埃卡设计研发完成，并于2020-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有粗糙材料填充物的集成组合件及形成集成组合件的方法在说明书摘要公布了：一些实施例包含一种具有延伸到集成配置中的开口的结构。第一材料位于所述开口内且经配置以产生相对于所述开口的侧壁的波状构形。所述波状构形具有由平均粗糙度参数Rmeanmean特征化的表面粗糙度，所述Rmeanmean是沿所述波状构形的平均峰谷距离。所述Rmeanmean是至少约4nm。第二材料位于所述开口内且沿所述波状构形的至少一部分。所述第一材料及所述第二材料在组成上彼此不同。一些实施例包含集成组合件。一些实施例包含形成集成组合件的方法。
本发明授权具有粗糙材料填充物的集成组合件及形成集成组合件的方法在权利要求书中公布了：1.一种结构，其包括： 开口，其延伸到集成配置中，所述开口具有侧壁； 材料，其位于所述开口内；所述材料包括不同尺寸的结构，所述不同尺寸的结构经配置以产生相对于所述侧壁的波状构形；所述波状构形具有由平均粗糙度参数Rmean特性化的表面粗糙度，所述Rmean是沿所述波状构形的平均峰谷距离；所述Rmean是至少4nm，所述不同尺寸的结构包括沿着所述侧壁的第一尺寸及垂直于所述第一尺寸的第二尺寸，所述第一尺寸是所述不同尺寸的结构中的较大尺寸，所述不同尺寸的结构包括非晶结构； 衬层，其位于所述侧壁和所述材料之间的所述开口中；其中所述材料是第一材料，且所述结构进一步包括位于所述开口内且沿所述波状构形的至少一部分的第二材料；所述第二材料在组成上不同于所述第一材料，及 其中所述第一材料包含一或多种金属与硼、碳、硅、锗、氮及氧中的一或多者的组合。
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