友达光电股份有限公司许肇驿获国家专利权
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龙图腾网获悉友达光电股份有限公司申请的专利X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115561797B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211051550.7，技术领域涉及：G01T1/16；该发明授权X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统是由许肇驿;陈彦宇;黄正义设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统在说明书摘要公布了：一种X射线曝光检测方法及X射线曝光侦测检测系统，所述X射线曝光检测方法包含以下步骤：于第一模式下，藉由平板传感器的处理器比对平板传感器的存储器所储存的第一影像及第二影像，以产生比对结果，第一影像及第二影像为平板传感器感测所获得；于第一模式下，藉由处理器判断比对结果是否超过预设阈值；若比对结果超过预设阈值，藉由处理器切换平板传感器的第一模式至第二模式；于第二模式下，藉由处理器读取存储器所储存的第三影像及第四影像，第三影像及第四影像为平板传感器被X射线照射所获得；以及于第二模式下，藉由处理器传输存储器所储存的第三影像及第四影像至外部系统。
本发明授权X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统在权利要求书中公布了：1.一种X射线曝光检测方法，包含： 于一第一模式下，藉由平板传感器的处理器比对该平板传感器的存储器所储存的第一影像及第二影像，以产生比对结果，其中该第一影像及该第二影像为该平板传感器感测所获得的时序相邻的两个影像； 于该第一模式下，藉由该处理器判断该比对结果是否超过预设阈值； 若该比对结果超过该预设阈值，藉由该处理器切换该平板传感器的该第一模式至第二模式； 于该第二模式下，藉由该处理器读取该存储器所储存的第三影像及第四影像，其中该第三影像及该第四影像为该平板传感器被X射线照射所获得的时序相邻的两个影像；以及 于该第二模式下，藉由该处理器传输该存储器所储存的该第三影像及该第四影像至外部系统。
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