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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法、基板处理装置以及处理液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116134586B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180060520.X，技术领域涉及：H10P50/60；该发明授权基板处理方法、基板处理装置以及处理液是由吉田幸史;田原香奈设计研发完成，并于2021-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理方法、基板处理装置以及处理液在说明书摘要公布了：一种基板处理方法，包括：处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使前述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于前述基板的表面形成处理膜；蚀刻成分形成工序，对前述处理膜进行蚀刻成分形成处理，由此在前述处理膜中形成蚀刻成分；蚀刻工序，通过在前述蚀刻成分形成工序中形成的蚀刻成分来蚀刻前述基板的表层部；以及处理膜去除工序，对前述处理膜的表面供给剥离液，由此将前述处理膜从前述基板的表面剥离从而将前述处理膜从前述基板的表面去除。

本发明授权基板处理方法、基板处理装置以及处理液在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，其中，包括： 处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使所述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于所述基板的表面形成处理膜； 蚀刻成分形成工序，对所述处理膜进行蚀刻成分形成处理，由此在所述处理膜中形成蚀刻成分； 蚀刻工序，通过在所述蚀刻成分形成工序中形成的蚀刻成分来蚀刻所述基板的表层部； 处理膜去除工序，对所述处理膜的表面供给剥离液，由此将所述处理膜从所述基板的表面剥离从而将所述处理膜从所述基板的表面去除；以及 高溶解性成分形成工序，在所述蚀刻成分形成工序之后且在所述处理膜去除工序之前，对所述处理膜进行高溶解性成分形成处理，由此于所述处理膜中形成第一高溶解性成分，所述第一高溶解性成分与所述处理膜中的其他成分相比在所述剥离液中的溶解性高， 在所述处理膜去除工序中，对所述基板的表面供给所述剥离液，由此使所述处理膜中的所述第一高溶解性成分溶解， 在所述处理膜形成工序中形成含有第一反应成分的所述处理膜， 在所述蚀刻成分形成工序中，通过所述蚀刻成分形成处理使所述第一反应成分分解，由此于所述处理膜中形成第二反应成分以及所述蚀刻成分， 在所述高溶解性成分形成工序中，通过所述高溶解性成分形成处理使所述第二反应成分分解，由此于所述处理膜中形成所述第一高溶解性成分。

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