应用材料公司M·R·赖斯获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利形成在用于等离子体处理腔室的静电吸盘中的接地电极获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111293023B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911094493.9，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权形成在用于等离子体处理腔室的静电吸盘中的接地电极是由M·R·赖斯;V·D·帕科设计研发完成，并于2019-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成在用于等离子体处理腔室的静电吸盘中的接地电极在说明书摘要公布了：本文公开了一种衬底支撑组件，所述衬底支撑组件具有沿着所述衬底支撑组件的侧表面设置在所述衬底支撑组件中的接地电极网。所述衬底支撑组件具有主体。所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的内部。所述主体具有接地电极网，所述接地电极网设置在所述主体的所述内部中并邻近所述外侧表面，其中所述接地电极不延伸通过到所述外侧顶表面或所述外侧表面。
本发明授权形成在用于等离子体处理腔室的静电吸盘中的接地电极在权利要求书中公布了：1.一种衬底支撑组件，包括： 主体，所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的内部，所述主体包括： 圆柱形接地电极，所述接地电极竖直地设置在所述主体的所述内部并邻近所述外侧表面；以及 RF电极，所述RF电极电耦接到所述圆柱形接地电极，其中所述RF电极水平设置在所述主体的所述内部中，其中所述圆柱形接地电极电耦接到延伸穿过所述外底表面的接触焊盘。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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