西安电子科技大学芜湖研究院汪琼获国家专利权
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龙图腾网获悉西安电子科技大学芜湖研究院申请的专利一种氮化镓器件的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113936993B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110996352.7，技术领域涉及：H10P14/694；该发明授权一种氮化镓器件的制备方法是由汪琼;黄永;程晨言;陈兴;王东;吴勇设计研发完成，并于2021-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种氮化镓器件的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种氮化镓器件的制备方法，包括如下步骤：采用化学气相沉积法在衬底上生长氮化铝界面层；其中，化学气相沉积反应室中的铝源和氨气均为脉冲方式通入，且在每一个通入氨气的时间段中，铝源均存在通入和关闭两种状态，在每一个关闭氨气的时间段中，铝源均处于通入状态；在氮化铝界面层上依次生长高阻层、沟道层和势垒层；高阻层为氮化镓层或者铝镓氮层。通过该发明中的方法，能够提高制备得到的氮化铝界面层也即氮化镓器件的质量，且制备效率较高。
本发明授权一种氮化镓器件的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种氮化镓器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 采用化学气相沉积法在衬底L1上生长氮化铝界面层L21；其中，化学气相沉积反应室中的铝源和氨气均为脉冲方式通入，且在每一个通入氨气的时间段中，铝源均存在通入和关闭两种状态，在每一个关闭氨气的时间段中，铝源均处于通入状态；所述化学气相沉积反应室中的铝源在通入第一时间段后关闭，氨气在经过所述第一时间段开启后，铝源和氨气以脉冲方式通入；铝源对应的一个脉冲内铝源的通入时间长度是铝源的关闭时间长度的两倍；铝源对应的一个脉冲内铝源通入的时间长度和氨气对应的一个脉冲内氨气通入的时间长度相同；铝源对应的一个脉冲内铝源关闭的时间长度与所述第一时间段的时间长度相同； 在所述氮化铝界面层L21上依次生长高阻层L3、沟道层L4和势垒层L5；所述高阻层L3为氮化镓层或者铝镓氮层。
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