中芯国际集成电路制造(上海)有限公司史经晓获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利一种静电吸盘及半导体处理机台获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223885619U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423094453.3，技术领域涉及：H10P72/72；该实用新型一种静电吸盘及半导体处理机台是由史经晓;费春潮;李飞;王亚平设计研发完成，并于2024-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种静电吸盘及半导体处理机台在说明书摘要公布了：本实用新型涉及半导体制备工艺领域，特别涉及一种静电吸盘及半导体处理机台。静电吸盘包括基板和电极，基板用于承载待吸附物；基板开设有至少一个通孔；电极分布于基板的上方，与基板至少部分区域接触，电极用于产生静电吸力，以将待吸附物吸附固定于基板上；电极将基板划分为多个单位承载区域，每个单位承载区域对应的电极与基板之间具有预设形状间隔，预设形状间隔与通孔之间形成气流通道，用于为工艺气体提供流动路径，以使工艺气体沿流动路径在基板与待吸附物之间流动。本实用新型的静电吸盘既能避免静电吸盘对晶圆的划伤，又能改善晶圆散热能力，提高半导体封装良率。
本实用新型一种静电吸盘及半导体处理机台在权利要求书中公布了：1.一种静电吸盘，用于吸附固定待吸附物，其特征在于，包括基板1和电极2： 所述基板1用于承载所述待吸附物；所述基板1开设有至少一个通孔3； 所述电极2分布于所述基板1的上方，与所述基板1至少部分区域接触，所述电极2用于产生静电吸力，以将所述待吸附物吸附固定于所述基板1上； 所述电极2将所述基板1划分为多个单位承载区域，每个所述单位承载区域对应的电极2与所述基板1之间具有预设形状间隔4，所述预设形状间隔4与所述通孔3之间形成气流通道，用于为工艺气体提供流动路径，以使所述工艺气体沿所述流动路径在所述基板1与所述待吸附物之间流动。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励