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龙图腾网获悉苏州新能环境技术股份有限公司申请的专利一种半导体行业废水处理系统及配置方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121318076B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511905403.5，技术领域涉及：C02F9/00；该发明授权一种半导体行业废水处理系统及配置方法是由唐叶红设计研发完成，并于2025-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体行业废水处理系统及配置方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种半导体行业废水处理系统及配置方法，包括超滤装置、反渗透装置及二者间的气液分离装置，该系统利用切向进流组件配合旋流区内的导流组件强制流体旋转下降，通过离心力分离超滤出水中的微气泡；利用扫气组件释放保护气体以置换析出气体并降低溶解氧；通过出液组件中顶部封闭且侧壁开孔的防涡构件，物理阻断液面气泡进入下游。该半导体行业废水处理系统有效解决了因微气泡及高溶解氧导致的高压泵气蚀、反渗透膜气阻与氧化污堵问题，显著提升了系统稳定性并延长设备寿命。

本发明授权一种半导体行业废水处理系统及配置方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体行业废水处理系统，其特征在于，包括超滤装置、反渗透装置以及设置于两者之间的气液分离装置，所述气液分离装置包括： 壳体，所述壳体的内部限定出上层的气相区域、中间的旋流分离区域及下层的液相区域；所述壳体外侧设有连通至所述气相区域的排气口、连通至所述旋流分离区域的进液口和连通至所述液相区域的出液口；所述进液口连接至超滤装置的产水端，所述出液口连接至所述反渗透装置的进水端； 切向进流组件，设置于所述进液口处，并配置为使进入所述壳体内的流体沿所述壳体内壁的切向引入； 导流组件，设置于所述壳体内部的所述旋流分离区域中，所述导流组件布置于所述切向进流组件的出口的延伸路径上，并配置为引导流体在所述壳体内壁形成圆周方向的旋转下降流； 扫气组件，包括延伸至所述气相区域内的气体分布器，所述扫气组件配置为接入外部气源并通过所述气体分布器向所述气相区域释放保护气体； 出液组件，包括管段和与所述管段一端连接的防涡构件，所述管段另一端连接至所述出液口，所述防涡构件位于所述液相区域内部，所述防涡构件的顶部封闭且侧壁开设有流通孔，所述防涡构件配置为阻断所述气相区域及液面表层析出的气泡进入所述出液组件； 所述导流组件包括固定于所述壳体内壁且沿所述壳体圆周方向延伸的弧形导流板，所述弧形导流板与所述壳体内壁之间形成环形流道，所述环形流道的入口端正对所述切向进流组件的射流方向； 所述弧形导流板的下缘延伸至所述切向进流组件的中心线水平面下方，且延伸至所述液相区域的设计最低液位之下； 所述气体分布器构造为环形喷淋管，所述环形喷淋管沿所述气相区域的内周布置；所述环形喷淋管上开设有若干喷孔，所述喷孔的开口方向朝所述壳体内壁倾斜，各所述喷孔配置为在所述气相区域形成环形气帘； 所述气液分离装置还包括连接至所述扫气组件的惰性气源，以及连接至所述排气口的压力调节组件；所述废水处理系统被配置为通过所述压力调节组件维持所述气相区域处于正压状态，并利用所述扫气组件置换从所述旋流分离区域及所述液相区域析出的溶解氧及气泡。

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