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龙图腾网获悉浙江万谷半导体有限公司申请的专利一种半导体制冷片清洗槽获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223902483U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520345967.7，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种半导体制冷片清洗槽是由温汉军设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体制冷片清洗槽在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体制冷片清洗技术领域，尤其涉及一种半导体制冷片清洗槽；包括：槽体，用于容纳清洗水和半导体制冷片；连接壳，设置于槽体上部，连接壳与槽体相连通；烘干机构，设置于连接壳上，用于产生热量以烘干槽体内待烘干物品；该烘干机构包括：进风槽，开设于连接壳一侧；热风机，设置于连接壳外侧，并通过进风槽与连接壳相连通；风道，与热风机相连通，热风机驱动风道抽取外部空气，以实现热量经过热风机从进风槽进入连接壳内；导轨，设置于连接壳内部两侧；密封胶板，滑动设置于两导轨之间，并盖合进风槽。本实用新型提供一种既能高效清洗半导体制冷片，又能对清洗后的半导体制冷片进行有效烘干的半导体制冷片清洗槽。

本实用新型一种半导体制冷片清洗槽在权利要求书中公布了：1.一种半导体制冷片清洗槽，其特征在于，包括： 槽体1，用于容纳清洗水和半导体制冷片； 支撑架2，通过螺栓连接的方式设置于所述槽体1外部左右两侧； 支撑柱3，设置于所述槽体1内部四周； 清洗板4，设置于四个所述支撑柱3顶部之间，用于放置半导体制冷片； 通孔41，具有若干个，均匀间隔开设于所述清洗板4上，使清洗水能够充分接触到半导体制冷片； 连接壳5，设置于所述槽体1上部，所述连接壳5与槽体1相连通； 顶盖51，设置于所述连接壳5顶部，所述顶盖51可打开或关闭，方便放入或取出半导体制冷片，并在清洗时防止清洗水溅出； 清洗机构8，设置于所述连接壳5内部，用于将清洗水喷洒在半导体制冷片上，实现对其冲洗； 排水机构9，用于实现清洗后水的排放，防止清洗水泄漏； 烘干机构6，设置于所述连接壳5上，用于产生热量以烘干槽体1内待烘干物品； 该所述烘干机构6包括： 进风槽61，具有若干个，开设于所述连接壳5一侧； 热风机62，设置于所述连接壳5外侧，并通过所述进风槽61与连接壳5相连通； 支板63，设置于所述连接壳5顶部右侧； 风道64，设置于所述支板63两侧，并与热风机62相连通，所述热风机62驱动所述风道64抽取外部空气，以实现热量经过热风机62从进风槽61进入连接壳5内； 导轨65，设置于所述连接壳5内部两侧； 密封胶板66，滑动设置于两所述导轨65之间，并盖合所述进风槽61，用于增强热风机62的密封性，防止制冷片清洗时水渍溅到热风机62。

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