拉普拉斯(西安)科技有限责任公司朱争强获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(西安)科技有限责任公司申请的专利镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223906939U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520384718.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型镀膜设备是由朱争强;李亮生;祁文杰;林佳继设计研发完成，并于2025-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于太阳能电池技术领域，公开了一种镀膜设备。该镀膜设备包括有第一工艺腔体、隔离腔体、第二工艺腔体和气体分析仪，隔离腔体设置于第一工艺腔体和第二工艺腔体之间，且第一工艺腔体和隔离腔体之间设置有第一腔体隔离阀，隔离腔体和第二工艺腔体之间设置有第二腔体隔离阀，隔离腔体设置有气体通入口，气体通入口用于供惰性气体通入隔离腔体内。通过该镀膜设备实现了一种兼顾原子层沉积对基片低损伤特性以及物理气相沉积的高效率特性的优良工艺，能够在保证对基底无损伤和保证工艺稳定的基础上，提升量产产能。
本实用新型镀膜设备在权利要求书中公布了：1.镀膜设备，用于对基片进行镀膜，其特征在于，包括： 第一工艺腔体，所述基片能够被运送至所述第一工艺腔体内以进行原子层沉积； 隔离腔体，所述隔离腔体设置于所述第一工艺腔体的下游，且所述第一工艺腔体和所述隔离腔体之间设置有第一腔体隔离阀； 第二工艺腔体，所述第二工艺腔体设置于所述隔离腔体的下游，所述基片能够穿过所述隔离腔体被运送至所述第二工艺腔体内以进行物理气相沉积，所述隔离腔体和所述第二工艺腔体之间设置有第二腔体隔离阀； 其中，所述隔离腔体设置有气体通入口，所述气体通入口用于供惰性气体通入所述隔离腔体内。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拉普拉斯(西安)科技有限责任公司，其通讯地址为：712000 陕西省西安市西咸新区泾河新城崇文镇泾河三街76号光电子学研究与创新中心3号楼3-4层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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