爱天思株式会社;东洋科美株式会社高桥淳获国家专利权
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龙图腾网获悉爱天思株式会社;东洋科美株式会社申请的专利密封层形成用片及密封有多个发光元件的构件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120583822B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510736473.6，技术领域涉及：H10H29/854；该发明授权密封层形成用片及密封有多个发光元件的构件是由高桥淳;松户和规;中山蕗梦;草野大地;南方克哉设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本密封层形成用片及密封有多个发光元件的构件在说明书摘要公布了：本发明提供一种密封层形成用片以及提供一种具有耐迁移性及所述边界的不可视性优异的密封有多个发光元件的构件。本公开的密封层形成用片是用于填埋将多个发光元件7作为光源的显示器用的发光元件7彼此之间，且被覆多个发光元件7的密封层形成用片1，且密封层形成用片1依次配置有第一膜2、密封层前体α、及第二膜5，密封层前体α的水蒸气透过度小于100[gm22·24小时]，吸湿率为1.5％质量以下，密封层前体α具有折射率为1.51±0.03的嵌入用无色树脂组合物层3及折射率为1.53±0.03的水蒸气阻挡层4。
本发明授权密封层形成用片及密封有多个发光元件的构件在权利要求书中公布了：1.一种密封层形成用片，用于填埋将多个发光元件作为光源的显示器用的发光元件彼此之间，且被覆射出多个发光元件的光的一侧的面，所述密封层形成用片依次配置有第一膜2、密封层前体α、及第二膜5，所述密封层前体α的水蒸气透过度小于100[gm2·24小时]，吸湿率为1.5质量％以下，所述密封层前体α具有折射率为1.51±0.03且水蒸气透过度为100[gm2·24小时]以上的嵌入用无色树脂组合物层3、及折射率为1.53±0.03且水蒸气透过度小于100[gm2·24小时]的水蒸气阻挡层4。
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